全球领先的半导体行业沉积设备提供商德国爱思强股份有限公司（法兰克福证券交易所：AIXA；纳斯达克：AIXG）今日在中国国际半导体照明论坛（China SSL）上推出新一代MOCVD 系统。新型的AIX R6 是为氮化镓基LED 的生产而设，并能提供12x6、31x4、121x2 英寸规格晶圆配置。这个集多项技术创新于一体的新系统将大幅降低运营成本，以及简化用户界面和制程控制。

“我们的新型AIX R6 解决了LED 厂商目前所面临的最重要挑战：器件价格不断下跌的激烈竞争环境，驱动以生产者成本较低的设备制造的需求。AIX R6 的设计是为了满足客户对高效生产的要求，助力他们优化生产成本，”AIXTRON 爱思强首席执行官兼总裁Martin Goetzeler 表示。“因此，来自三安光电的突破性订单记录证明了我们的新型AIX R6 在今天正式推出之前，就已经凭借其卓越性能和价值定位，成功获得一名关键的市场参与者。”

AIX R6 的设计基于AIXTRON 爱思强的近耦合喷淋头®（CCS）概念。这项关键技术已在多个市场上获得高度认可，尤其以出色的化学反应效率以及固有的沉积均匀性而著称。与现时系统相比，AIX R6 能节省超过30%的生产者成本以及增加超过120%的产量，为LED 大规模生产树立全新标准。

AIXTRON 爱思强首席技术官Andreas Toennis 在强调新型MOCVD 设备的优势时表示：“AIXR6 的研发重点在于满足客户的生产需求。我们着重通过提高生产力、更多的自动化、增强可靠性和延长运行时间来实现产量最大化。此外，通过加强温度监控和控制系统来改善制程控制也是AIX R6 的另一个关键特点。新型制程控制系统消除了温度变异以提高可重复性和良率，并且能够缩短生产周期和快速校准。”

（来源: IC设计与制造）