2018年1月24日消息：全球领先光罩供应商凸版光罩（ToppanPhotomasks, Inc.）宣布加码投资凸版上海工厂，针对先进光罩扩充全新的尖端量产设备。凸版上海为凸版光罩旗下子公司，专为半导体客户生产光罩。新增的尖端设备预计于2018年4月开始安装，首批安装的设备用于生产65/55纳米光罩，之后将逐步扩增其他新设备。 预计于2018年秋季全部安装完成，并于2019年上半年开始生产28与14纳米光罩。

凸版印刷股份有限公司董事、电子部门负责人Tetsuro Ueki表示：“决定扩充投资上海厂，目的是为了因应中国市场持续增长的需求。凸版印刷将持续投资，以强化我们在中国大陆尖端光罩的生产力，并结合我们在日本与中国台湾的生产优势。我们预估到2020年时，亚洲市场的规模将成长至约2.9亿元。”

凸版上海总裁TerryRussell表示：“除了现有的标准产品以及光罩护膜（repellicle）的生产服务，将藉由引进尖端设备，在中国建立先进光罩的生产能力。以因应在地客户短周期交货的需求。”

凸版光罩执行长MichaelG. Hadsell表示：“我们不仅针对10奈米以下制程持续生产次世代半导体光罩，同时亦着手研发各种尖端产品， 包括预期在7奈米世代将采用的EUV光罩。 我们了解到唯有持续推动这些投资，才能为客户提供高水平的服务，并在全球蓬勃发展的半导体相关市场中维持技术竞争的优势。”

凸版印刷在1961年跨入光罩事业后，便一直是业界的领导者，这全都要归功于其致力研发尖端技术及供货的能力。目前凸版印刷在日本拥有两座最先进的光罩光厂和研发中心，子公司凸版光罩在美国(1985)、法国(1988)、德国(2002)、中国(1995)、韩国(1989)拥有5座工厂。

凸版光罩除提供光罩外还提供FC-BGA基板和OCCF（on-chip color filter）。

（来源：芯华社）