产业观察
 
许居衍院士:复归于道——封装改道芯片业
 2019-9-12
 

9月9日,在无锡举办的2019年中国半导体封装测试技术与市场年会上,中国工程院院士许居衍发表了《复归于道——封装改道芯片业》的精彩演讲。许院士指出,半个多世纪以来,在摩尔定律的指导下,业界努力朝着芯片面积更小、晶体管数量更多的方向迈进,深刻地革新了现代社会的方方面面。然而,业界对单片集成的狂热追求已经偏离了“正道”,正面临着严峻的挑战和风险。当前,3D集成和多片异构集成技术正在成熟,有望在不远的将来引导业界重回“正道”,为整个半导体行业带来更深层次的技术变革。

 

 

演讲伊始,许院士历数了集成电路发展历程中的几个关键节点,从登纳德缩放定律(Dennard Scaling)引领时钟频率(clock rate)狂飙突进,到4GHz止步;从单核处理器向多核处理器发展;从CPU+GPU单片同构集成向多片异构集成演进;苹果A10处理器采用了台积电(TSMC)的集成扇出(InFO)先进封装技术;2016年国际半导体技术路线图(ITRS)宣布不再以摩尔定律(ML)为目标;从ITRS到国际器件与系统路线图(IRDS),业界的关注重心也在迁移。许院士指出:“历史事件犹如枝上嫩芽,总在它要长出的地方露头,结出果子。”异构计算激发多芯片先进封装(MCP),有望带来新产业生态系统和新商业模式。

 

纵观半导体集成电路数十年的发展历史,也基本上算是单片集成的历史,可以总结出极为明晰的发展哲学:装置之道在于“又好又便宜”,业界关注重点从PPA(性能、功耗和面积)转向PPC+(性能、功耗、成本、etc.)。

 

“便宜”容易理解,那什么是“好”?对于当前的业界,好就是“又小又大”,“小”就是“大”。所谓“小”,晶体管的尺寸越来越小。半导体制程半个多世纪以来沿着摩尔定律稳步减小,从诺伊斯(Robert Noyce)和基尔比(Jack Kilby)发明集成电路的久远年代,到99年的0.18μm,再到目前尚未量产的5nm,甚至1nm制程在实验室里也早已不是神话。所谓“大”,集成度越来越大。芯片面积保持不变或略有减少的情况下,放进越来越多的晶体管:从肖克利(William Shockley)发明晶体管,到后来极大规模集成电路(ULSI)、系统级芯片(SoC)和专用芯片(ASIC),单一芯片内部的晶体管数目已经高达百亿。当今社会的一切电子产品,小到随处可见的手机电脑,大到互联网、物联网乃至人工智能所依托的数据中心服务器,再到执行人类登月计划的超级计算机,其背后都有集成电路的身影,集成电路的大发展彻底地改变了我们的生活。

 

然而,业界一直以来奉为圭臬的单片集成哲学早已偏离了“初衷”:电子系统的基本要求是使用最经济的资源,实现最理想的功能。这包括内架构与外环境的优化、高性能与低功耗的兼顾、小体积与长寿命的融合。业界一直以来所重视的PPA和PPC逻辑已然迷了路。

 

首先,半导体制程已进入10nm以下,再进一步微缩将会触及物理学和经济学的双重极限。沟道长度(channel length)在该尺度上,已经无法忽视量子隧穿所带来的漏电流问题,即便鳍式场效应晶体管(FinFET)和环绕栅极(Gate-All-Around)也回天乏术。而半导体制造光刻工艺需要极端苛刻的光刻精度,极紫外光线(EUV)光刻机的研发也困难重重。制程进一步微缩所需要的研发经费已呈指数级增长,制造工艺所要求的高端掩模的价格急剧攀升,极端复杂的集成度也进一步拉低了芯片良率,盈利风险越发明显。经典的2D缩放已经“耗尽”了现有的技术资源。

 

其次,最新制程的研发时间再难以遵循摩尔定律,以“翻番”闻名于世的摩尔定律已经日薄西山,业界只能摒弃单片集成,转而寻找新的出路。比如异构集成(heterogeneous integration)、片上网络(NoC)、硅通孔(TSV)、3D封装乃至模块化芯粒(chiplet)集成等。

 

当前3D集成技术日渐成熟,业界已经意识到2D同构集成向3D异构集成转变的优越性。2016年,苹果A10处理器率先采用了扇出型晶圆级封装(FOWLP)技术,推动FOWLP技术成为业界焦点。而3D系统级封装(3D SiP)则能为人工智能深度学习提供助力。

 

3D集成与封装技术的进步使在单个封装(包含采用多项技术的芯片)内构建复杂系统成为可能,成为了业界走出单片集成、实现逻辑复归的契机。从单片(Monolithic)到多片(MCM),不仅成品率显著提升,成本下降,峰值算力也得以突破单片屏障。

 

这里要提一下“芯粒”(chiplet)。芯粒是商品化的、具有特定IP(知识产权)的未经封装的裸芯片。芯粒可以像搭积木一样通过先进的集成技术封装在一起,形成一个新型SoC。芯粒模式,实质上讲就是硅片级别(硬IP)的复用,区别于传统SoC里面软件级别(软IP)的复用,实现了“MCM”到“MCM”的逻辑复归。前者的C表示软IP,后者的C表示硬IP。

 

早在2015年就有华裔专家进行了多片集成的尝试,不仅提出模块化芯片的构想,还推出了基于“芯粒”的模块化产品。

 

2017年DARPA在电子复兴计划(ERI)中启动了名为通用异构集成及知识产权复用策略(CHIPS)的项目,旨在通过混合和匹配即插即用式芯粒构建一个模块化的计算框架。2018年,多家公司成立了开放特定领域架构组织(ODSA),希望制定芯粒开放标准,促进形成芯粒生态系统。英特尔(Intel)目前已经创建了自己的生态系统并正在着力推动建立芯粒行业标准,如推出高密度互连的嵌入式多芯片互连桥(EMIB)和可作为行业标准模对模接口的高级接口总线(AIB)技术,甚至还发布了名为Foveros的全新3D异质堆叠技术。

 

在后摩尔定律时代,多片异构集成将业界的目光从制程微缩引到了先进封装,绕过了制程进一步微缩所面临的严峻挑战,避免了资源和效率的浪费,是替代单片集成的优质选项。采用多片异构集成,将不同功能模块和不同工艺制程的IP核集成起来,将提供更高的带宽、更低的功率、更低的成本和更灵活的形状因子。将芯粒与多片异构集成技术完美结合,像搭积木一样制造芯片,将有可能彻底改变计算行业。然而,当前还是不能对芯粒模式过于乐观。芯粒模式成功的关键在于芯粒的标准和接口。目前仍然面临诸多难题,如行业尚缺标准的组装或封装芯粒的方法,芯粒之间的互连方案有待选择,需要建立芯粒的验证和测试方法以沟通设计和制造,还需要建立芯粒制造、封装和集成商的供应链关系等。不同节点、设计、制造成的芯粒再集成中的拓补结构仍然面临不少难题。一句话总结就是“任重而道远”。

 

无论如何,芯粒都将驱动半导体工业的未来,带来多芯片先进封装的巨大海啸。大型芯片制造商纷纷转向芯粒,对于业界来讲是个积极的信号,也是“封装改道芯片业”的有力印证。

 

(来源:无锡市半导体行业协会)