铠侠发布112层3D NAND
铠侠1月31日宣布,已研发出3D NAND Flash“BiCSFLASH”的第5代产品,采用堆叠112层制程技术,且已完成试作、确认基本动作。
该款堆叠112层的3DNAND试作品为512Gb(64GB),采用3bit/cell(TLC:TripleLevelCel)技术的产品,预计将在2020年第一季进行样品出货,除将用来抢攻需求持续扩大的资料中心用SSD、商用SSD、PC用SSD及智能手机等市场外,也将用来抢攻5G、人工智能(AI)、自动驾驶等新市场需求。
和铠侠目前已量产的96层3DNAND产品相比,112层3DNAND每单位面积的记忆容量提高约20%,且每片晶圆所能生产的记忆容量增加,每bit成本也下滑。
铠侠指出,该款112层3DNAND产品为该公司和合作伙伴美国WesternDigital(WD)所携手研发完成,今后将利用双方共同营运的四日市工厂以及北上工厂进行生产,且今后也计划推出采用堆叠112层制程技术的1Tb(128GB)TLC产品以及1.33Tb的4bit/cell(QLC:Quadruple-LevelCell)产品。关于上述112层3DNAND的量产时间,WD宣布预定将在2020年下半年。
铠侠竞争对手南韩三星电子已于2019年6月开始量产堆叠100层以上的3DNAND产品。
(来源:MonerDJ/JSSIA整理)