据台媒报道，晶圆代工大厂联电之前被美国司法部诉讼协助晋华窃取美光的DRAM制造技术一案，双方有望以6000万美元进行和解，目前方案尚待法院核准。

联电10月22日发布公告称，联电向美国司法部提出和解解决方案，以期在最短时间内结束本案。联电提出的建议量刑状书包含：请求法院处以轻便的罪名，以及原被告双方协商的罚金美金6000万美元。解决方案尚待法院批准。

盗窃知识产权和窃取商业机密如果被判事实成立，向来都会面临最严厉的处罚。如今协商到仅营业秘密刑事案件，罚金6千万美元，比之前预期的结果好很多。

（来源：中国电子报、电子信息产业网）