7月29日，南大光电官方发布公告：“关于公司承担的国家科技重大专项（02专项）”已通过专家组验收。其中包括极大规模集成电路制造装备及成熟工艺、先进7纳米光刻胶产品开发与光刻胶供给链产业化。

据南大光电披露，公司收到极大规模集成电路制造装备及成套工艺实践管理办公室下发的项目综合绩效评价结论书，公司作为牵头单位，承担的“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之光刻胶项目通过了专家组验收。

据悉，光刻胶项目总体目标是开发高端集成电路制造用ArF干式与浸没式光刻胶成套工艺技术，形成规模化生产能力；构建与集成电路行业国际先进水平接轨的技术和管理人才团队等等。项目分为三个子课题，南大光电控股子公司宁波南大光电材料有限公司(以下简称宁波南大光电)承接了其中的“ArF光刻胶产品的开发和产业化”课题。

专家组评定后认为，通过项目的实施，宁波南大光电掌握了ArF干式和浸没式系列光刻胶产品的原材料制备、配胶、分析检测、应用验证等关键技术，在知识产权和人才培养等方面取得重要进展。形成了由51人组成的ArF光刻胶研发与生产管理团队，建成了ArF光刻胶产品的质量控制平台、年产5吨的干式ArF光刻胶及年产20吨的浸没式ArF光刻胶产业化生产线。实现ArF光刻胶产品销售，完成了任务合同书规定的主要考核指标。

需要注意的是，有关7纳米ArF光刻胶的应用，南大光电目前只是小规模投产，与之相关的生产线正在构建当中。在公告中，南大光电也表示，ArF光刻胶的复杂性决定了其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险，不仅需要技术攻关，还需要在应用中进行工艺的改进、完善。同时，ArF光刻胶产品国产化替代受品质、客户的严格要求，后续是否能取得下游客户的大批量订单，能否大规模进入市场仍存在较多的不确定性。这些都会影响ArF光刻胶的量产规模和经济效益。

高端光刻胶是集成电路实现28nm、14nm乃至10nm以下制程的关键。长期以来，全球高端光刻胶市场被以日本合成橡胶、东京应化、信越化学、富士电子材料等为代表的国外技术垄断。而在我国，高端光刻胶领域仍有大量品种短缺或空白，因此，高端光刻胶技术成为了我国芯片制造的“卡脖子”难题，相关领域进口替代需求紧迫。

我国企业也在积极研发高端光刻胶产品，以打破国外垄断，实现光刻胶的进口替代。国内从事高端光刻胶研发和生产的公司主要有南大光电、上海新阳、晶瑞股份、北京科华等。

（来源：微电子制造/JSSIA整理）