近日，盛美上海宣布，首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影Track设备，该设备由盛美半导体设备（亚太）制造中心完成出货。

根据此前消息，该设备是一款应用于300毫米晶圆工艺的设备，可提供均匀的下降气流、高速稳定的机械手处理以及强大的软件系统；另外，该设备能够降低产品缺陷率，提高产能，节约总体拥有成本（COO）；同时，该设备还将支持包括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺，让晶圆在光刻设备中曝光前后的涂胶和显影步骤得到优化。

此外，盛美上海将于2023年推出i-line型号设备，并且公司已开始着手研发KrF型号设备。

（JSSIA整理）