南大光电3月21日在投资者互动平台表示，其控股子公司宁波南大光电材料有限公司研发的ArF光刻胶，已在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点的产品上通过认证。

近年来国内光刻胶市场保持了良好的增长趋势，但以ArF光刻胶为代表的高端光刻胶领域国内市场份额仍然较小，长期为国外巨头所垄断。2021年全球光刻胶市场份额中，日本厂商东京应化、合成橡胶（JSR）、住友化学及富士胶片的市场占有率合计达到60%，美国陶氏化学市占率17%，韩国东进11%。在ArF光刻胶领域，合成橡胶（JSR）以24%的市场份额位居全球第一，国内ArF光刻胶几乎全部依赖进口，日本及美国公司占据了绝对主导地位。

南大光电指出，光刻胶是客制化产品，他们针对每家客户的不同需求开发多款产品进行验证。因是进口替代，所以他们能研发的产品需要适应客户端的工艺参数，留给他们的调整空间很小，所以验证难度大。不过，南大光电也强调目前验证进展顺利，公司也将抓紧推进市场拓展工作，争取尽快实现批量销售。

（JSSIA整理）