晶园工艺
 
三星宣布完成16层混合键合HBM内存技术验证
 2024-4-12
 

三星电子近日透露,公司完成了采用16层混合键合HBM内存技术验证,已制造出基于混合键合技术的16层堆叠HBM3内存样品,该内存样品工作正常,未来16层堆叠混合键合技术将用于HBM4内存量产。

 

据悉,混合键合技术作为一种新型的内存键合方式,相较于传统的键合工艺,具有显著优势。它摒弃了在DRAM内存层间添加凸块的烦琐步骤,直接通过铜对铜的连接方式实现上下两层的连接。这种创新方式不仅提高了信号的传输速率,更好地满足了AI计算对高带宽的迫切需求,同时也降低了DRAM层间距,使得HBM模块的整体高度得到缩减。

 

混合键合技术的成熟度和应用成本一直是业界关注的焦点,为了解决这一问题,三星电子在HBM4内存键合技术方面采取了多元化的策略。除了积极推进混合键合技术的研究与应用,三星电子还同步开发传统的TC-NCF工艺,以实现技术多样化,降低风险,并提升整体竞争力。在混合键合技术之外,三星还在不断探索和优化TC-NCF工艺。据悉,三星的目标是在HBM4中将晶圆间隙缩减至7.0微米以内,以进一步提升HBM4的性能和可靠性。

 

业内专家表示,三星在16层混合键合堆叠工艺技术方面的突破,将有力推动HBM内存技术的发展,为未来的计算应用提供更为强大的内存支持。

 

(来源:中国电子报)