据国家集成电路设计无锡产业化基地4月13日消息，尚积半导体于近日成功交付了一批12英寸PVD&CVD薄膜沉积设备给国内某头部客户。

据介绍，该设备采用模块化设计，便于客户根据实际需求进行灵活配置和升级。设备还配备了高精度温度、压力、功率及气流控制系统，以确保沉积过程及成膜质量稳定可靠。

尚积半导体是一家专业研发、生产半导体设备的厂商，主营设备包括金属溅射沉积（PVD）、加强型等离子化学气相沉积（PECVD）、等离子干法刻蚀（ETCH）等，主要服务于功率器件、微机电系统、先进封装、化合物半导体、射频等领域的客户。

（来源：国家集成电路无锡产业化基地/JSSIA整理）