ASML于4月17日宣布，已开始向另一家客户交付第二台High-NA EUV光刻机。

ASML首席商务官Christophe Fouquet在财报电话会议上透露，公司启动了第二套设备的发货。但ASML没有透露第二家客户的身份。

2023年底到2024年年初，ASML向英特尔的交付了首台High-NA EUV光刻设备Twinscan EXE：5000。

ASML近期发布的帖子和照片表示，High NA设备已成功印刷10nm线宽图案。据ASML网站称，该设备的理论极限分辨率是8nm。

（JSSIA整理）