9月3日，据日经新闻报道，英特尔将与国家先进产业科学技术研究所（AIST）合作，在日本建立先进半导体制造设备和材料研发中心。预计将在3-5年内完成，并引进ASML极紫外线光刻（EUV）设备。。

据介绍，该研发中心将在未来3到5年落成，拟配备极紫外光（EUV）光刻设备。英特尔和AIST计划向该项目投入数千亿日元。AIST将率先运营研发中心，英特尔将提供使用EUV光刻设备的关键半导体制造专业知识。设备制造商与材料商只要缴纳一定的费用，就能使用设备进行测试与试作

（JSSIA整理）