近日，武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）自主设计的T150 A光刻胶产品，通过了量产验证测试。

据悉，T150 A光刻胶产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。据介绍，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达120nm，且工艺宽容度大，稳定性高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。

太紫微公司是一家光刻胶研发和生产的高科技企业，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。

引业内人士表示，T150 A对标UV1610产品。从使用情况来看，UV1610产品是一种“很常用的胶”，门槛不算高，但需求量会比较大。国内厂商如北京科华和徐州博康等有能力生产UV1610产品。此外，光刻胶的最终成效还是要看市场与客户的反馈。据介绍，光刻胶产品在客户端验证周期通常需要2年。

据了解，我国半导体光刻胶的国产化率不高，g/I线光刻胶国产化率约为20%；KrF光刻胶国产化率在30%-40%之间，但也有证据显示其国产化率不足5%；ArF光刻胶国产化率极低，不足1%。尽管高端光刻胶的国产化率较低，但国内厂商正在加速研发和产业化进程。

（JSSIA整理）