据媒体报道，日本国立产业技术综合研究所（AIST）将与英特尔合作，在日本兴建最先进的半导体研发中心。

该研发中心投资约1000亿日元（约合7亿美元），由AIST负责运营，英特尔将提供极紫外（EUV）光刻技术方面的专业知识，预计于2027年投入营运。

此前就有消息传出，称英特尔将与日AIST在日本建立芯片研发基地，新设施将在三到五年内建成，并配备极紫外线光刻（EUV）设备。设备制造商和材料公司将付费使用该设施进行原型设计和测试。

另外，英特尔和AIST还将成立一家合资公司来监督该项目。AIST将投资约1000亿日元，并寻求日本半导体设备和材料供应商的进一步资助。

（JSSIA整理）