晶园工艺
 
SK海力士开始量产321层NAND闪存
 2024-11-22
 

11月21日,SK海力士官方宣布,开始量产全球最高的321层1TB TLC(Triple Level Cell)14D NAND闪存。

 

据SK海力士官网介绍,SK海力士在此次产品开发过程中采用了“3-Plug2”工艺技术。该技术分三次进行通孔工艺流程,随后经过优化的后续工艺将3个通孔进行电气连接。在其过程中开发出了低变形材料,引进了通孔间自动排列(Alignment)矫正技术。

 

此外,SK海力士将上一代238层NAND闪存的开发平台应用于321层,由此最大限度地减少了工艺变化,与上一代相比,其生产效率提升了59%。与上一代产品相比,321层NAND的数据传输速度提高了12%,读取性能提高了13%,数据读取能效也提高了10%以上。

 

SK海力士表示,计划从明年上半年起向客户提供321层产品。

 

(JSSIA整理)