当地时间3月1日，英特尔宣布推迟其在美国俄亥俄州新奥尔巴尼的Ohio One晶圆厂的建设时间表。这是该工厂原定于2025年完工的第三次大幅推迟。

法新社和美联社的报道称，英特尔在一份声明中表示，计划在新奥尔巴尼建造的两家工厂中的第一家工厂（Mod 1）原计划2025年建成，之后推迟到了2027-2028年，现在推迟到了2030年完工，并预计在2031年之前开始运营。第二个晶圆厂（Mod 2）的建设将于2031年完成，2032年开始运营。

Intel在俄亥俄州规划的新工厂预计占地4平方公里，包含最多8座晶圆厂，目前已经完成地基工作。修改后的时间表显示，俄亥俄州的工厂将采用英特尔14A和14A- e节点后开发的工艺技术，目前计划在2026-2027年推出。这些先进的制造工艺，可能依赖于ASML尖端的High NA EUV光刻机。

（JSSIA整理）