2025 Symposium on VLSI Technology and Circuits将于6月8-12日在日本京都开幕，会议将汇集世界各地行业和学术界的工程师和科学家，讨论超大规模集成电路制造和设计中的挑战。

一、VLSI 2025录用论文情况

根据大会的官方程序，VLSI 2025共录用常规论文251篇（包括1篇Late News论文），其中VLSI技术组录用常规论文104篇（包括1篇Late News论文，来自imec）；VLSI电路组录用常规论文141篇。另有邀请论文12篇，以及4篇全体报告。

VLSI技术组录用的104篇常规论文，从区域来看，比利时10篇；韩国24篇；美国19篇；日本6篇；瑞士1篇；新加坡8篇；中国内地20篇，中国台湾16篇。

VLSI电路会议录用的141篇常规论文，从区域来看，爱尔兰3篇；比利时5篇；德国1篇；韩国28篇；荷兰9篇；美国36篇；日本14篇；瑞士2篇；新加坡2篇；意大利3篇；中国内地26篇，中国香港·1篇，中国澳门5篇，中国台湾6篇。

技术/电路联合聚焦录用的6篇常规论文，从区域来看，法国1篇关注ReRAM；韩国2篇；美国2篇；中国台湾1篇。

美国录用57篇，排名第一；韩国录用54篇，排名第二；中国大陆（包括内地、香港、澳门）共录用52篇，排名第三；中国台湾录用23篇，排名第四；日本录用20篇，排名第五；比利时录用15篇，排名第六；新加坡录用10篇，排名第七；荷兰录用9篇，排名第八；爱尔兰、瑞士、意大利各录用3篇，并列第九；德国、法国各录用1篇，并列第十二位。

同时大会邀请了12篇论文，分别来自日本产业技术综合研究所（AIST）、楷登电子（Cadence）、Cerebras、格罗方德（GF）、英特尔（Intel）、美光科技（Micron）、英伟达（NVIDIA）、高通（Qualcomm）、三得电子（Samsung）、海思、台积电（TSMC）。

4篇全体大会报告，分别来自SK海力士（SK Hynix）、英伟达（NVIDIA）、联发科（MediaTek）、意法半导体（STM）。

根据对第一作者所在单位的统计（不包括特邀报告），三星以17篇居首；imec以15篇排名第二；KAIST以13篇居第三；北京大学以12篇排名第四；新加坡国立大学、台积电各以10篇并列第五。

从产业界来看，根据对第一作者所在单位的统计，共有20家公司录用66篇，分别是韩国三星17篇，台积电10篇，英特尔8篇，IBM有6篇，应用材料、海力士、索尼半导体各有3篇；华为录用2篇，和铠侠（KIOXIA）、美满电子（Marvell）、美光科技（Micron）并列第八。

从高校来看，根据对第一作者所在单位的统计，共有58所高校录用164篇，韩国KAIST以13篇排名第一；北京大学以12篇排名第二；新加坡国立大学以10篇排名第三；清华大学以8篇和台湾大学并列第六，复旦大学以5篇和澳门大学、代尔夫特理工大学（TU Delft0、延世大学（Yonsei University）并列第八。

从研究机构来看，根据对第一作者所在单位的统计，共有5家机构录用21篇，imec以15篇居第一；中科院微电子所3篇排名第二；中科院半导体所、台湾工业技术研究院（ITRI）和日本产业技术综合研究所（AIST）各有1篇。

二、VLSI 2025中国论文入选情况

中国内地共录用46篇论文，其中技术组20篇，电路组26篇；中国香港·1篇，来自电路组；中国澳门5篇，全部来自电路组；中国台湾23篇，其中技术组16篇，电路组6篇，联合聚焦组1篇。

中国内地46篇论文中，除2篇来自工业界外，其他44篇来自学术界：

北京大学12篇，电路4篇，技术4篇；

东南大学1篇，技术组；

复旦大学5篇，电路3篇，技术2篇；

华中科技大学2篇，电路组

南方科技大学3篇，电路组

南京邮电大学1篇，电路组；

清华大学7篇，电路6篇，技术1篇；

上海交通大学1篇，技术组

西安电子科技大学2篇，电路和技术各1篇；

香港科技大学（广州）2篇，电路组

浙江大学2篇，电路和技术各1篇；；

中国科技大学2篇，电路组；

中国院半导体所1篇，电路组；

中国科学院微电子所3篇，技术组；

中国澳门5篇，全部来自澳门大学5篇，位于电路组；

中国香港1篇，来自香港科技大学，位于电路组。

中国台湾23篇论文中，有14篇来自学术界，分别来自“台湾大学”7篇，“台湾清华大学”4篇，“台湾阳明交通大学”3篇；有9篇来来自工业界，分别是台积电6篇，“台湾工研院”（ITRI）、力积电和旺宏各1篇。

2025年中国内地有2家机构首次录用论文，分别是南京邮电大学、香港科技大学（广州）。

（来源：芯思想）