6月25日消息，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）近期宣布，其Primo Menova 12寸金属刻蚀设备全球首台机顺利付运国内一家重要集成电路研发设计及制造服务商。

据悉，中微公司的12英寸ICP单腔刻蚀设备Primo Menova注于金属刻蚀，尤其擅长于金属Al线、Al块的刻蚀，可广泛应用于功率半导体、存储器件和先进逻辑芯片的制造，是晶圆厂金属化工艺主要设备之一。Primo Menova基于中微量产的ICP刻蚀产品Primo Nanova研发制造，搭配高效率腔体清洁工艺，可减少腔室污染，延长腔体持续运行时间。Primo Menova系统还集成了配备高温水蒸气的除胶腔室（strip chamber），高效去除金属刻蚀后晶圆表面残留光刻胶及副产物。

（JSSIA整理）