6月20日，邑文科技宣布其自主研发的首台12英寸介质层刻蚀机SPC 12D正式交付成都比亚迪半导体产线。

本次交付的设备是邑文科技自研Seric Plasma SPC 12D刻蚀设备，主要适用于IC、功率器件、硅基微显示、微纳光学器件、先进封装等领域。此设备配备标准的6边自主研发的自动真空平台，并搭配基于Windows平台开发软件控制系统，是12英寸适用硅衬底的SPC 12D电容耦合等离子刻蚀机。

邑文科技成立于2011年，主营业务为半导体前道工艺设备的研发、制造，主要产品为刻蚀工艺设备和薄膜沉积工艺设备，应用于半导体（IC及OSD）前道工艺阶段，尤其是化合物半导体和MEMS等特色工艺领域。

（JSSIA整理）