9月8日，盛美半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“盛美上海”）宣布推出首款自主研发的高产出KrF工艺前道涂胶显影（Track）设备Ultra LITH KrF，并于9月成功交付中国头部逻辑客户。

据介绍，Ultra LITH KrF采用盛美上海自主创新、并已获得全球专利申请保护的垂直交叉式结构设计。该设备配备12个旋涂腔和12个显影腔（12C12D），搭载54块可精确控温的热板，产能超过300WPH，并集成背面颗粒去除（BPRV）及晶圆级异常检测（WSOI）模块，有效保障工艺稳定性和生产良率。

（JSSIA整理）