晶园工艺
 
日本向Rapidus追加6315亿日元投资
 2026-4-14
 

4月11日,日本政府批准向Rapidus追加拨款6315亿日元(约合人民币270.15亿元),帮助其加速进军竞争激烈的AI芯片制造市场,并降低日本对台积电的依赖。日本政府预计在2027年3月(2026财年结束)前,对Rapidus的累计投资总额将达到2.6万亿日元。

 

据悉,Rapidus正在开发2nm制程的先进逻辑半导体,于2025年完成试制,并计划2027年度开始量产。根据规划,Rapidus初期月产能规划6000片晶圆,计划在量产后约一年内提升至2.5万片/月,实现约四倍规模增长。

 

日本经产省还表示,Rapidus计划在2031年度左右进行首次公开发行(IPO),并计划部分透过政府贷款担保,寻求约3兆日元的民间融资。该公司已在北海道千岁市设立设施,用以测试与诊断芯片以提升良率,而专攻后段制程开发的研发中心也已开始运作。

 

同日,Rapidus举行了分析中心与先进封装设施(RCS)的启用仪式,这两幢建筑均为其2nm晶圆厂IIM-1的配套设施。Rapidus的分析中心可容纳最为先进的电子显微镜,可进行物理分析、环境与化学分析、电学表征和可靠性测试。而RCS位于精工爱普生千岁工厂,此前已在小规模试制600mm×600mm  RDL中介层等产品。

 

今年3月,Rapidus宣布已完成一轮总额达2676亿日元(当时约合人民币117.6亿元)的融资,资金来自日本政府和私营企业。同月,佳能与新思科技(Synopsys)日本分公司宣布与Rapidus携手开发2nm图像处理芯片,旨在满足边缘终端实时图像处理与AI处理的高级化需求。

 

(来源:SEMI/JSSIA整理)