7月16日消息，阿斯麦（ASML）公司表示，英特尔（Intel）公司已在Intel 18A工艺节点上，开始使用其高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻技术进行大规模量产。

两家公司在联合声明中表示，英特尔将依靠阿斯麦的高数值孔径极紫外线光刻机（High NA EUV）来生产部分代号为“Panther Lake”的英特尔酷睿Ultra 3系列处理器。

双方表示，Intel 18A部分工艺层已完成High NA EUV双重认证，产品良率已达到现有NXE EUV平台水平，并将继续推进该技术在未来制程节点的应用。

ASML总裁兼首席执行官Christophe Fouquet表示，High NA EUV具有更高的分辨率与更佳的工艺控制，标志着半导体光刻技术的重大发展。

英特尔代工执行副总裁兼总经理Naga Chandrasekaran则强调，这一里程碑展现了英特尔与ASML的密切合作，并证明了High NA EUV规模化整合至先进半导体制造领域的可行性。

（JSSIA整理）