8月30日，拓荆科技股份有限公司董事长吕光泉、无锡尚积半导体科技股份有限公司董事长王世宽一行来访无锡高新区，并出席尚积半导体薄膜和刻蚀设备研制基地项目签约活动。

呼吸，尚积半导体薄膜和刻蚀设备研制基地项目计划总投资超10亿元，用地60亩，达产年预计形成年产薄膜沉积设备200台、刻蚀设备50台的产能。

无锡尚积半导体科技股份有限公司成立于2021年，是一家专注半导体薄膜沉积与刻蚀设备研发制造的企业，核心产品覆盖PVD、刻蚀、CVD等前道关键设备2026年7月，拓荆科技发布公告，拟购买无锡尚积82.97%股份，并通过收购上海泰纳微100%股权和无锡宽行100%股权，最终直接及间接持有无锡尚积100%股份。

（JSSIA整理）